X射線熒光光譜儀的設計特點及工作原理
2023-02-23
X射線熒光光譜儀具有重現性好，測量速度快，靈敏度高的特點。能分析F(9)～U(92)之間所有元素。樣品可以是固體、粉末、熔融片，液體等，分析對象適用于煉鋼、有色金屬、水泥、陶瓷、石油、玻璃等行業樣品。無標半定量方法可以對各種形狀樣品定性分析，并能給出半定量結果，結果準確度對某些樣品可以接近定量水平，分析時間短。薄膜分析軟件FP-MULT1能作鍍層分析，薄膜分析。測量樣品的最大尺寸要求為直徑51mm，高40mm。
X射線熒光光譜儀的特點：
1、X射線熒光(XRF)是一種非破壞性的元素分析技術，可以測量您的工藝流，而不會造成任何損失或化學/物理變化。由此實現的實時在線分析可以快速優化許多工藝參數和產品屬性。
2、EpsilonXflow采用經過驗證的強大Epsilon3X技術，該技術由激發和探測技術提供支持。設計精良的光路、適合輕元素和重元素的廣泛激發功能，加上高靈敏度SDD探測器系統，這一切造就了Epsilon3X的強大性能。所有這些創新共同產生了高度可重復和準確的結果，并且維護需求低。
3、EpsilonXflow的靈活設計使其在許多不同的工藝和工藝條件下都可輕松地實現集成。我們提供完整解決方案，能夠應對不同的條件。
X射線熒光光譜儀（XRF）是由激發源（X射線管）和探測系統組成的。X射線管產生入射X射線（一次X射線），激發被測樣品。每一種元素會放射出二次X射線在受到激發的樣品中，然而具有特定的能量特性或波長特性是由不同的元素所放射出的二次X射線。探測系統測量這些放射出來的二次X射線的能量及數量。之后成樣品中各種元素的種類及含量被儀器軟件將探測系統所收集到的信息轉換成。
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